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专利状态
多层结构复合隔膜及其制备方法、以及二次电池与用电设备
有效
专利申请进度
申请
2021-03-26
申请公布
2021-06-01
授权
2023-01-24
预估到期
2041-03-26
专利基础信息
申请号
CN202110326143.1
申请日
2021-03-26
申请公布号
CN112886143A
申请公布日
2021-06-01
授权公布号
CN112886143B
授权公告日
2023-01-24
分类号
H01M50/449;H01M50/403;H01M50/491;H01M50/497;H01M10/0525
分类
基本电气元件;
申请人名称
上海电气集团股份有限公司
申请人地址
上海市长宁区兴义路8号30层
专利法律状态
2023-01-24
授权
状态信息
授权
2021-06-01
公布
状态信息
公布
摘要
本申请涉及电池隔膜领域,公开一种多层结构复合隔膜及其制备方法、以及二次电池与用电设备,多层结构复合隔膜包括多孔聚合物基膜、纳米氧化物颗粒和点状聚合物涂层;纳米氧化物颗粒完全嵌入多孔聚合物基膜的孔中,并附着在多孔聚合物基膜的丝状结构上;多孔聚合物基膜的两面设置点状聚合物涂层。本申请通过在多孔聚合物基膜上使用原子层沉积技术引入纳米级氧化物颗粒,使全部一致性较好的氧化物颗粒嵌入基膜孔径中,在不影响隔膜原有的锂离子通道基础上,提高隔膜在高温下的稳定性,还可以增强隔膜对电解液的浸润性。另外,两面设置点状聚合物涂层也更加适应现有锂离子生产场景,提高电池的循环性能。
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