局部亮光可变图像光学系统

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专利状态

局部亮光可变图像光学系统

有效

专利申请进度

申请

2020-04-28

授权

2021-03-19

预估到期

2030-04-28

专利基础信息

申请号	CN202020676961.5	申请日	2020-04-28
授权公布号	CN212749415U	授权公告日	2021-03-19
分类号	G02B30/27;G02B30/30
分类	光学;
申请人名称	上海天臣微纳米科技股份有限公司
申请人地址	上海市松江区莘砖公路518号3幢201室

专利法律状态

2021-03-19

授权

状态信息

授权

摘要

本实用新型提供一种局部亮光可变图像光学系统。局部亮光可变图像光学系统，包括：微透镜阵列层；基材层，透明且位于所述微透镜阵列层之下；图文结构，位于所述基材层之下且分布于所述基材层的局部；以及镀层，仅覆盖所述图文结构的表面且用于增强所述图文结构的亮度。本实用新型通过图文结构的局部亮光，可实现仅需要的图像产生立体或可变效果，其他部分为透明，这样在与其他印刷产品结合使用时既不会影响其他图案的表现，又可以在需要的地方增加立体或可变效果的点缀，大大增加了印刷品的美观度和吸引力。

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