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专利状态
超导电路及其制备方法
有效
专利申请进度
申请
2019-06-06
申请公布
2020-12-08
授权
2024-03-22
预估到期
2039-06-06
专利基础信息
申请号
CN201910492823.3
申请日
2019-06-06
申请公布号
CN112054113A
申请公布日
2020-12-08
授权公布号
CN112054113B
授权公告日
2024-03-22
分类号
H10N60/82;H10N60/01
分类
基本电气元件;
申请人名称
阿里巴巴集团控股有限公司
申请人地址
英属开曼群岛大开曼资本大厦一座四层847号邮箱
专利法律状态
2024-03-22
授权
状态信息
授权
2020-12-25
实质审查的生效
状态信息
实质审查的生效;IPC(主分类):H01L39/06;申请日:20190606
2020-12-08
公布
状态信息
公布
摘要
本发明公开了一种超导电路及其制备方法。其中,该超导电路包括:底层结构,其中,底层结构包括超导量子比特底层部分和其余超导电路底层部分,超导量子比特底层部分和其余超导电路底层部分通过同一底层超导层连接。本发明解决了在相关技术中,在实现超导电路中的超导量子比特部分与其余超导电路部分互连时,存在不仅工艺复杂,降低超导电路良率,而且存在金属之间的界面,电学连接质量不高,降低超导量子比特性能的技术问题。
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